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| 写真はφ300対応(枚葉方式)ＣＭＰ後洗浄装置 |
 特徴 |
・洗浄対象物に適した洗浄工程、装置が多岐に渡り可能 | |
| ・省エネルギー | ||
| ・前、後工程に合わせた搬送機構が選択出来る | ||
| ・使用薬液に対応した装置の提供が出来る | ||
| ・クリーン搬送、クリーン環境の保持 | ||
| 特徴適応分野 |
・受入洗浄 ・ＲＣＡ洗浄 ・レジスト剥離 | |
| ・マスク洗浄・ＣＭＰ後洗浄 | ||
| 特徴搬送機構 |
枚葉 | |
| 特徴洗浄機構 |
・超音波 ・ブラシ ・メガソニック | |
| ・高圧シャワー・オゾン水 ・イオン水 | ||
| 特徴乾燥機構 |
・スピン | |